溅射靶材广泛用于装饰镀膜工业、建筑玻璃、汽车玻璃工业、平面显示工业、光学工业及光数据存储工业等。
我司提供的各种靶材均采用优质原料，具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大优势。
这些磁控溅射镀膜生产的理想靶材，主要包括W、Mo、Ti、TiAl、Ta、Si、Zr、Ni、Nb、V、Mg、SiO、ITO等难熔金属的单质靶材、合金靶材以及它们的氧化物靶材。
其规格和形状均可根据客户要求提供。